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GCBMCH-B 薄膜厚度測量綜合實驗

一(yī)、産品簡介

光學薄膜的物(wù)理厚度是薄膜最基本的參數之一(yī),它會影響整個器件的最終性能,因此快速而精确地測量薄膜厚度具有重要的意義。

随着計算機、CCD技術及微刻蝕技術的發展,微型光譜儀成爲了實驗室光譜分(fēn)析的重要工(gōng)具。我(wǒ)(wǒ)司數字光譜儀選用 Richardson 閃耀光栅,靈敏度提升 20%,雜(zá)散光降低 50%。同時,采用雙閃耀技術,搭載紫外(wài)敏化 CCD,第一(yī)次将有效波段拓展至 200~1100nm。而這一(yī)切都被放(fàng)在了全新設計的 72.5mm焦距 / 對稱 / 非交叉 C-T 光學平台之中(zhōng)。可達到最低0.1nm的光譜分(fēn)辨率;具有波長探測範圍較寬,高穩定性,可編程控制,設計緊湊,便于攜帶和測量等優勢,在光電(diàn)檢測設備、環境檢測系統、色彩偵測管理、醫學檢測和光譜分(fēn)析方面都有廣泛的應用。

基于白(bái)光幹涉的原理,利用我(wǒ)(wǒ)司微型數字光譜儀通過數學函數被可以比較精确的計算出薄膜厚度。


二、知(zhī)識點

白(bái)光幹涉、微型光譜儀、Y型光纖、透射光譜、反射光譜、光譜分(fēn)辨率

 

三、涉及課程

光學、光電(diàn)子技術、光電(diàn)檢測、光譜分(fēn)析、光譜應用技術


四、實驗内容

1、了解白(bái)光幹涉原理

2、動手搭建薄膜測厚系統

3、測量不同樣品膜厚